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立式双腔旋转甩干机
用途:立式双腔旋转甩干机主要用于硅圆片、掩模板、太阳能电池等类似材料的冲洗甩干,也可用于蓝宝石硅片和触摸屏玻璃基板,是半导体湿法清洗工艺中必不可少的主要设备之一。
主要结构特征及工艺流程
结构特征
甩干机主要由主轴传动部分,片盒夹具,工作外腔,机架罩壳,加热部分,洁净管路部分,电气控制等组成。
材质:不锈钢机架+10mm PP板。
设备机架:SUS304不锈钢材料,能够满足洁净室工作环境。
排风系统:间接式抽风设计,有效稳定空气扰流。
地脚:有高度调整和锁定功能。
工作过程中,清洗工作腔与外界密封隔离。
腔体和载体采用耐腐蚀316L不锈钢并电化学抛光。腔体门盖采用专用密封圈,用充气方式进行密封。片架载体可方便更换。
腔体与轴采用无接触氮气密封。
阶段
去离子水旋转冲洗
离心甩干
氮气烘干
时间
60s
360s
速度
1000r/min
2000r/min
1500r/min
介质
去离子水
氮气
氮气温度
常温
80°